第一章 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)概述
第一節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備的概述
一、半導(dǎo)體設(shè)備的概述及定義
二、半導(dǎo)體設(shè)備的分類
第二節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備的發(fā)展歷程
第三節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展環(huán)境分析
一、宏觀經(jīng)濟(jì)環(huán)境分析
二、政府政策環(huán)境分析
三、行業(yè)技術(shù)環(huán)境分析
第二章 半導(dǎo)體光刻設(shè)備行業(yè)發(fā)展分析
第一節(jié) 光刻機(jī)
一、光刻機(jī)的概述及分類
二、光刻機(jī)市場(chǎng)空間和格局
三、光刻機(jī)行業(yè)特點(diǎn)及技術(shù)
四、我國(guó)光刻機(jī)現(xiàn)狀
第二節(jié) 涂膠顯影設(shè)備(光刻輔助設(shè)備)
一、涂膠顯影設(shè)備的概述及分類
二、涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)空間和格局
三、涂膠顯影設(shè)備行業(yè)特點(diǎn)及技術(shù)
四、我國(guó)涂膠顯影設(shè)備現(xiàn)狀
第三章 半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備行業(yè)發(fā)展分析
第一節(jié) 刻蝕機(jī)
一、刻蝕機(jī)的概述及分類
二、刻蝕機(jī)市場(chǎng)空間和格局
三、刻蝕機(jī)行業(yè)特點(diǎn)及技術(shù)
四、我國(guó)刻蝕機(jī)現(xiàn)狀
第二節(jié) 去膠設(shè)備
一、去膠設(shè)備的概述及分類
二、去膠設(shè)備市場(chǎng)空間和格局
三、去膠設(shè)備行業(yè)特點(diǎn)及技術(shù)
四、我國(guó)去膠設(shè)備現(xiàn)狀
第四章 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展分析
第一節(jié) 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)的概述及特點(diǎn)
一、薄膜沉積定義及概述
二、薄膜沉積技術(shù)分類
三、薄膜沉積設(shè)備技術(shù)特點(diǎn)
第二節(jié) 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析
一、薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
二、電子特氣行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模分析
三、電子特氣行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局分析
第三節(jié) 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)主要企業(yè)分析
一、應(yīng)用材料
二、泛林半導(dǎo)體
三、東京電子
第五章 清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展分析
第一節(jié) 清洗設(shè)備行業(yè)的概述及特點(diǎn)
一、清洗技術(shù)分類
1.濕法清洗
2.干法清洗
二、清洗設(shè)備行業(yè)技術(shù)特點(diǎn)
第二節(jié) 清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析
一、清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
二、清洗設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模分析
三、清洗設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)集中度分析
第三節(jié) 薄膜沉積設(shè)備行業(yè)主要企業(yè)分析
一、北方華創(chuàng)
二、至純科技
三、鑫源微
第六章 CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展分析
第一節(jié) CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
一、CMP設(shè)備行業(yè)概述
二、全球CMP設(shè)備市場(chǎng)概況
1.全球CMP設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模及分布情況
2.全球CMP設(shè)備市場(chǎng)格局
三、國(guó)內(nèi)CMP設(shè)備市場(chǎng)概況
第二節(jié) CMP設(shè)備行業(yè)主要企業(yè)分析
一、應(yīng)用材料
二、日本荏原
三、華海清科
第三節(jié) CMP設(shè)備發(fā)展趨勢(shì)分析
一、拋光頭分區(qū)精細(xì)化
二、工藝控制智能化
三、清洗單元多能量組合化
四、預(yù)防性維護(hù)精益化
第四節(jié) CMP設(shè)備行業(yè)面臨的機(jī)遇與挑戰(zhàn)分析
一、機(jī)遇
二、挑戰(zhàn)
第七章 其他設(shè)備行業(yè)發(fā)展分析
第一節(jié) 離子注入設(shè)備
一、離子注入設(shè)備分類
二、離子注入設(shè)備市場(chǎng)空間和格局
三、離子注入設(shè)備行業(yè)特點(diǎn)及技術(shù)
四、我國(guó)離子注入設(shè)備行業(yè)現(xiàn)狀
第二節(jié) 熱處理設(shè)備(爐管設(shè)備)
一、熱處理設(shè)備分類
二、熱處理設(shè)備市場(chǎng)空間和格局
三、熱處理設(shè)備行業(yè)特點(diǎn)及技術(shù)
四、我國(guó)熱處理設(shè)備行業(yè)現(xiàn)狀
第三節(jié) 過程量測(cè)設(shè)備
一、過程量測(cè)設(shè)備分類
二、過程量測(cè)設(shè)備市場(chǎng)空間和格局
三、過程量測(cè)設(shè)備行業(yè)特點(diǎn)及技術(shù)
四、我國(guó)過程量測(cè)設(shè)備行業(yè)現(xiàn)狀
第四節(jié) 封裝設(shè)備
一、封裝設(shè)備分類
二、封裝設(shè)備市場(chǎng)空間和格局
三、封裝設(shè)備行業(yè)特點(diǎn)及技術(shù)
四、我國(guó)封裝設(shè)備行業(yè)現(xiàn)狀
第五節(jié) 測(cè)試設(shè)備
一、測(cè)試設(shè)備分類
二、測(cè)試設(shè)備市場(chǎng)空間和格局
三、測(cè)試設(shè)備行業(yè)特點(diǎn)及技術(shù)
四、我國(guó)測(cè)試設(shè)備行業(yè)現(xiàn)狀
第八章 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)狀況分析
第一節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)波特五力模型分析
一、企業(yè)現(xiàn)有競(jìng)爭(zhēng)
二、潛在進(jìn)入者
三、替代品
四、上游供應(yīng)商
五、下游客戶
第二節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局分析
一、半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)結(jié)構(gòu)分析
二、半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)集中度分析
第三節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)投融資分析
一、半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)M&A事件情況
二、半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)投融資趨勢(shì)分析
第九章 半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展?jié)摿笆袌?chǎng)前景分析
第一節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展SWOT分析
一、優(yōu)勢(shì)(strength)
二、劣勢(shì)(weakness)
三、機(jī)遇(opportunity)
四、威脅(threaten)
第二節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)進(jìn)入壁壘分析
一、技術(shù)壁壘
二、資金壁壘
三、客戶壁壘
四、人才壁壘
第三節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展風(fēng)險(xiǎn)分析
一、政策風(fēng)險(xiǎn)分析
二、技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)分析
三、市場(chǎng)風(fēng)險(xiǎn)分析
四、其他風(fēng)險(xiǎn)分析
第十章 半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)投資策略及發(fā)展建議
第一節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)投資策略
第二節(jié) 半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)可持續(xù)發(fā)展建議
在半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)即將爆發(fā)的背景下,參與者不斷進(jìn)入。但由于這個(gè)行業(yè)還不太成熟,缺少產(chǎn)業(yè)相關(guān)數(shù)據(jù)做支撐,因此許多投資者對(duì)這個(gè)行業(yè)還不太了解,在投資時(shí)和決策時(shí)可能會(huì)有一定的偏差和失誤。為了給產(chǎn)業(yè)界和投資界提供更翔實(shí)、更準(zhǔn)確的決策和投資依據(jù),高維產(chǎn)業(yè)咨詢通過對(duì)全國(guó)主要半導(dǎo)體設(shè)備及其上下游企業(yè)的大量實(shí)地調(diào)研,結(jié)合行業(yè)領(lǐng)軍人物的面對(duì)面采訪,收集了大量的第一手資料,在此基礎(chǔ)上生成了《2021-2026年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)分析及前景預(yù)測(cè)報(bào)告》。
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